发明名称 具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件及其制造方法
摘要 本申请公开了一种具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件及其制造方法,其适合于通过当在薄膜晶体管区中形成蚀刻停止层时在焊盘接触区中的数据线下方形成辅助蚀刻停止层,来防止在形成接触孔时在数据线区中产生针孔故障。
申请公布号 CN102983152B 申请公布日期 2015.06.10
申请号 CN201210303214.7 申请日期 2012.08.23
申请人 乐金显示有限公司 发明人 蔡志恩;安贞恩;李泰根
分类号 H01L27/32(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I 主分类号 H01L27/32(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;钟强
主权项 一种制造具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件的方法,该方法包括:制备限定为像素区和焊盘接触区的基板;在基板的像素区和焊盘接触区中形成栅极和链接线;在提供有栅极的基板上顺序形成栅极绝缘膜和第一透明导电材料膜,和对第一透明导电材料膜执行第一掩模工序,以在像素区内形成像素电极;在提供有像素电极的基板上形成氧化物层,和对氧化物层执行第二掩模工序,以在与栅极相对的栅极绝缘膜上形成沟道层;在提供有沟道层的基板上形成绝缘层,和对绝缘层执行第三掩模工序,以形成设置在沟道层上的蚀刻停止层和设置在将被数据线占据的焊盘接触区上的辅助蚀刻停止层;在于基板上形成蚀刻停止层之后,在基板的整个表面上形成金属膜,和对金属膜执行第四掩模工序,以形成源极和漏极以及数据线,数据线的一端与焊盘接触区内的辅助蚀刻停止层交叠;在提供有源极和漏极的基板上形成钝化层,和执行接触孔的形成工艺,以暴露出链接线和与辅助蚀刻停止层相对的数据线;和在具有接触孔的基板上形成第二透明导电材料膜,和执行第五掩模工序,以形成设置在像素区内的公共电极和设置在焊盘接触区内并连接数据线和链接线的公共电极。
地址 韩国首尔
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