| 摘要 |
La présente invention concerne un dispositif pour positionner un masque (10) relativement à la surface d'un wafer (11) en vue de l'insolation dudit wafer (11), qui comprend (i) des premiers moyens de positionnement (20) aptes à maintenir et à déplacer l'un par rapport à l'autre ledit masque (10) et ledit wafer (11), (ii) des moyens d'imagerie (20, 22, 23, 30) apte à produire au moins une image du masque (10) et de la surface du wafer (11) selon au moins un champ de vue (14), de telle sorte à imager simultanément dans ledit champ de vue (14) des repères de positionnement (12, 13) dudit masque (10) et dudit wafer (11), et (iii) au moins un capteur optique de distance (26) apte à produire une mesure de distance entre la surface du wafer (11) et le masque (10) dans le ou lesdits champ(s) de vue (14), avec un faisceau de mesure (15, 28) qui traverse au moins en partie les moyens d'imagerie. L'invention concerne aussi un procédé mis en œuvre dans ce dispositif et un appareil. |
