等离子体处理装置的可移动室衬等离子体约束屏蔽组合

摘要

一种等离子体反应室中的可移动对称室衬，用于保护等离子体反应室、提高等离子体密度和均匀性、以及降低工艺气体消耗，包括圆柱形壁、具有多个开口的底壁、具有嵌入式加热器的凸起的内边沿、加热器触点、以及RF接地返回触点。室衬在上部位置和下部位置之间被致动器移动，在上部位置，衬底可被传递出入该室，在下部位置，衬底在该室中进行处理。致动器还提供到加热器和RF接地返回触点的电气连接。

主权项

一种可移动室衬，其被构造为在具有处理半导体衬底用途的等离子体反应室中，围绕衬底支撑件的周界安装，所述室衬包括：环状底壁，其具有多个气体通道，所述环状底壁被构造为当所述可移动室衬位于所述等离子体反应室中的下部位置时处于所述衬底支撑件的衬底支撑表面的下方；连续圆柱形外壁，其没有从中穿过的开口，从所述底壁的外部周界轴向地向上延伸，当所述可移动室衬位于所述下部位置时，所述圆柱形外壁的上表面在所述衬底支撑件的所述衬底支撑表面上方延伸；内边沿，其从所述底壁的内部周界轴向地向上延伸，当所述可移动室衬位于所述下部位置时，所述内边沿的最上面的表面不在所述衬底支撑件的所述衬底支撑表面上方延伸；加热器，其由所述内边沿支撑，且能操作来将所述可移动室衬加热至升高的温度。