发明名称 PRE-COMPENSATE TARGET MATERIAL PUSH-OUT FOR EUV LIGHT
摘要 레이저 생성 플라즈마("LPP") 극자외선("EUV") 광 시스템으로부터 출력된 에너지는 레이저 빔이 초기 초점에서 플라즈마를 발생시키도록 타겟 재료의 방울에 얼마나 잘 초점 맞추어지는지에 기초하여 변한다. 버스트 발사 동안 초기 초점에 방울을 유지하는 것은 이전의 방울로부터 발생된 플라즈마가 후속 방울을 초기 초점 밖으로 밀기 때문에 어렵다. 방울을 초기 초점에 재정렬하기 위한 현 방울간 피드백 제어는 비교적 느리다. 여기에 기술된 시스템 및 방법은 방울이 레이징될 때, 방울이 레이저 빔에 의해 초기 초점으로 밀려 플라즈마를 발생시키도록 초기 초점으로부터 오프셋된 타겟 위치로 방울을 지향시킴으로써 방울 밀림을 적응식 사전 보상한다. 시간이 흐르면서, EUV 시스템은 플라즈마가 초기 초점에서 지속적으로 발생되도록 방울 위치의 실시간 정렬을 유지한다.
申请公布号 KR20150060755(A) 申请公布日期 2015.06.03
申请号 KR20157009114 申请日期 2013.08.20
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 VAN DER BURGT JEROEN;GRAHAM MATTHEW R.;KINNEY CHARLES;DUNSTAN WAYNE J.
分类号 H05G2/00;B05B17/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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