发明名称 气压驱动的阵列式激光增益介质面型调控机构
摘要 一种气压驱动的阵列式激光增益介质面型调控机构,包括:由多个互相独立的气嘴组成的气嘴阵列、气流控制模块、增压气泵、真空泵、由多个半导体泵浦模块二维排列构成的半导体激光泵浦面阵、第一输入气管、第二输入气管和多根输出气管。本发明可通过气嘴阵列对增益介质表面不同区域产生大小可调的推力和拉力,从而具有调控面型的作用,对增益介质面型调控过程中不存在刚性接触,对增益介质表面是柔性作用,不产生破坏,用于激活反射镜构型的激光器,实现对增益介质面型的调控。
申请公布号 CN104682170A 申请公布日期 2015.06.03
申请号 CN201510080654.4 申请日期 2015.02.15
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 桂珞;王建磊;马明;施翔春;陈卫标
分类号 H01S3/02(2006.01)I 主分类号 H01S3/02(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯;张宁展
主权项 一种气压驱动的阵列式激光增益介质面型调控机构,特征在于其构成包括:由多个互相独立的气嘴(1)组成的气嘴阵列、气流控制模块(2)、增压气泵(3)、真空泵(4)、由多个半导体泵浦模块(61)二维排列构成的半导体激光泵浦面阵(6)、第一输入气管(21)、第二输入气管(22)和多根输出气管(23);所述的增压气泵(3)和真空泵(4)分别通过第一输入气管(21)和第二输入气管(22)与所述的气流控制模块(2)的第一输入端、第二输入端相连,该气流控制模块(2)的各输出端分别经所述的输出气管(23)与所述的气嘴(1)的入气口相连,所述的气嘴阵列分布在所述的导体激光泵浦面阵(6)的不同位置,且穿过对应位置的半导体泵浦模块(61)的间隙,所述的气嘴(1)的出气口正对增益介质(7)。
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