发明名称 图案结构之制作方法及透明导电结构之制作方法;METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT CONDUCTIVE STRUCTURE
摘要 一种图案结构之制作方法及透明导电结构之制作方法。图案结构之制作方法包含下列步骤。提供一模仁,其中此模仁之一侧设有一压印图案结构。压印图案结构包含至少一凸出部与至少一凹陷部。进行一电泳制程或一介电泳制程,以形成一转印材料层于压印图案结构上。转印材料层至少位于前述至少一凸出部之顶面上或至少一凹陷部内。进行一压印步骤,以将位于至少一凸出部之顶面上或至少一凹陷部内之转印材料层转移至基板之表面上。
申请公布号 TW201520665 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW102142884 申请日期 2013.11.25
申请人 馗鼎奈米科技股份有限公司 CREATING NANO TECHNOLOGIES, INC. 发明人 徐逸明 SHYU, YIHMING;游闵盛 YOU, MINSHENG;沈冠宏 SHEN, GUANHUNG
分类号 G02F1/167(2006.01) 主分类号 G02F1/167(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 台南市永康区亚太工业区中正路279巷21弄59号 TW