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经营范围
发明名称
软性半导体装置之制造方法
摘要
申请公布号
TWI487020
申请公布日期
2015.06.01
申请号
TW098139316
申请日期
2009.11.19
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
江口晋吾;及川欣聪;片山雅博;中村亚美;门马洋平
分类号
H01L21/306;H01L21/77
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种软性半导体装置的制造方法,包括如下步骤:在基板上形成剥离层;在该剥离层上形成半导体元件;在该半导体元件上形成树脂层;使用蚀刻液以溶解该剥离层;以及从该基板分离该半导体元件,其中该蚀刻液是氨-过氧化氢的混合溶液。
地址
日本
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