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经营范围
发明名称
半导体装置和其制造方法
摘要
申请公布号
TWI487104
申请公布日期
2015.06.01
申请号
TW098137143
申请日期
2009.11.02
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
山崎舜平;坂田淳一郎
分类号
H01L29/78;H01L21/336
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种半导体装置,包含:在具有绝缘表面的基板上的闸极电极层;在该闸极电极层上的闸极绝缘层;在该闸极绝缘层上的包含通道形成区的第一氧化物半导体层,该第一氧化物半导体层含有铟、镓以及锌;以及在该第一氧化物半导体层上的源极电极层和汲极电极层,其中该通道形成区含有从由金、钼、钨、铌以及钽组成的组中选择的至少一种金属元素。
地址
日本
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