| 主权项 |
一种涂布、显像装置，系将藉由载体搬入至载体区块之基板收授于处理区块，以该处理区块形成含有光阻膜之涂布膜之后，相对于上述处理区块经位于与载体区块相反侧之介面区块而搬运至曝光装置，在上述处理区块对经上述介面区块而返回之曝光后之基板进行显像处理而收授至上述载体区块，该涂布、显像装置之特征为：a)上述处理区块包含：上下互相叠层具备有将用以形成上述涂布膜之药液供给至基板之液处理模组，和加热涂布药液之后的基板之加热模组，和为了在该些模组间搬运基板，在连结载体区块和介面区块之直线搬运路径上移动之单位区块用之搬运机构的涂布膜用之单位区块，而使成为N层化(N为2以上之整数)的叠层体：和对上述叠层体叠层，上下互相叠层具备有对基板供给显像液之液处理模组，和加热基板之加热模组，和在连结载体区块和介面区块之直线搬运路径上移动之单位区块用之搬运机构的显像处理用之单位区块，而成为N层化(N为2以上之整数)的叠层体，被上述N层化之涂布膜用之单位区块系被构成形成互相相同之涂布膜，具备：b)收授部，其系在每个单位区块被设置在载体区块侧，用以在与各单位区块之搬送机构之间进行基板之收
授；c)收授机构，其系用以将从载体排出之基板收授至涂布膜用之单位区块之收授部；和d)控制部，其系用以控制基板之搬运。 |
