发明名称 |
薄膜形成方法及薄膜形成装置 |
摘要 |
本发明的课题为提供一种薄膜形成方法,可抑制用于薄膜形成之所需时间的增大,并可形成表面的凹凸减轻的薄膜。其解决手段是在基板弹着液状的薄膜材料之后,将弹着后的薄膜材料硬化至第1硬化度为止,藉此形成第1薄膜部份。使一部份与第1薄膜部份重叠地将液状的薄膜材料弹着后,重新使弹着后的薄膜材料硬化至第2硬度为止,藉此形成第2薄膜部份。在第1薄膜部份与第2薄膜部份的边界不能分辨之后,将第1薄膜部份及第2薄膜部份硬化至比第1硬化度及第2硬化度其中之一硬化度都高的第3硬化度。 |
申请公布号 |
TW201519963 |
申请公布日期 |
2015.06.01 |
申请号 |
TW103131155 |
申请日期 |
2014.09.10 |
申请人 |
住友重机械工业股份有限公司 SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. |
发明人 |
冈本裕司 OKAMOTO, YUJI |
分类号 |
B05D3/00(2006.01);B05D3/06(2006.01) |
主分类号 |
B05D3/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |