发明名称 电浆处理装置及方法
摘要 目的在提供可高速处理的电浆处理装置及方法。在感应耦合型电浆炬单元(T)中,接着线圈(3)、盖(12)及第一陶瓷块(4),长形的腔室(7)为环状。在腔室(7)内所发生的电浆(P)系由腔室(7)中的开口部(8)朝向基材(2)喷出。以相对于开口部(8)的长边方向呈垂直的方向,使长形的腔室(7)与基材载置台(1)相对移动,藉此处理基材(2)。藉由在冷媒流路(13)流通冷媒,有效率地将第一陶瓷块(4)冷却。
申请公布号 TW201521080 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW103138356 申请日期 2014.11.05
申请人 松下知识产权经营股份有限公司 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. 发明人 奥村智洋 OKUMURA, TOMOHIRO
分类号 H01J37/32(2006.01);H01L21/20(2006.01) 主分类号 H01J37/32(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP
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