发明名称 |
电浆处理装置及方法 |
摘要 |
目的在提供可高速处理的电浆处理装置及方法。在感应耦合型电浆炬单元(T)中,接着线圈(3)、盖(12)及第一陶瓷块(4),长形的腔室(7)为环状。在腔室(7)内所发生的电浆(P)系由腔室(7)中的开口部(8)朝向基材(2)喷出。以相对于开口部(8)的长边方向呈垂直的方向,使长形的腔室(7)与基材载置台(1)相对移动,藉此处理基材(2)。藉由在冷媒流路(13)流通冷媒,有效率地将第一陶瓷块(4)冷却。 |
申请公布号 |
TW201521080 |
申请公布日期 |
2015.06.01 |
申请号 |
TW103138356 |
申请日期 |
2014.11.05 |
申请人 |
松下知识产权经营股份有限公司 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. |
发明人 |
奥村智洋 OKUMURA, TOMOHIRO |
分类号 |
H01J37/32(2006.01);H01L21/20(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |