| 摘要 |
<p>リソグラフィ装置及びデバイス製造方法が開示される。リソグラフィ装置は、支持ステージ（１６）と、センサ部（１３）及び基準部（１２，１４）を含む測定システム（１２〜１４）と、を含み、前記測定システムは、基準部（１２，１４）と相互作用するセンサ部（１３）を用いて、基準フレーム（６，８，１０）に対する、支持ステージ（１６）又は支持ステージ上に搭載されたコンポーネントの位置及び／又は配向を決定するように構成され、基準フレーム（６，８，１０）は、第１の基準周波数より低い振動に対して主に単一の剛体として、かつ、第２の基準周波数より高い振動に対して主にＮ個の物体のシステムとして挙動するように結合されたＮ個のサブフレーム（６，８）を備え、Ｎは１より大きい整数である。【選択図】図１</p> |
