| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beheizen insbesondere eines Suszeptors eines CVD-Reaktors mit mindestens einem ersten Heizelement (1.1) und mindestens einem zweiten Heizelement (1.2), wobei jedes Heizelement (1.1, 1.2) ein von ein oder mehreren Filamenten gebildetes Heizorgan (2.1, 2.2) aufweist, wobei die Heizorgane (2.1, 2.2) in einer gemeinsamen Heizebene oder in mehreren zueinander parallelen Heizebenen (H1, H2) liegen und die Enden der Heizorgane (2.1, 2.2) mit quer zur Heizebene (H1, H2) sich erstreckenden Kontaktelementen (3.1, 4.1, 3.2, 4.2) jeweils mit einer in einer zur Heizebene (H1, H2) parallelen Kontaktebene (K1, K2) liegenden Kontaktplatte (5, 6) verbunden sind, wobei die Kontaktelemente (3.1, 3.2, 4.1, 4.2) in der Kontaktebene (K1, K2) derart nebeneinander angeordnet sind, dass die Heizelemente (1.1, 1.2) zwischen den Kontaktplatten (5, 6) elektrisch parallel geschaltet sind. Um die Standzeit einer Heizvorrichtung zu erhöhen, wird vorgeschlagen, dass die Heizorgane (2.1, 2.2) der Heizelemente (1.1, 1.2) gleich lang sind und einen gleichen elektrischen Widerstand haben, dass die Kontaktelemente (3.2, 4.2) des zweiten Heizelementes (1.2) einen Abstand (A2) voneinander haben, der geringer ist als der Abstand (A1) der Kontaktelemente (3.1, 4.1) des ersten Heizelementes (1.1) und kürzer sind als die Kontaktelemente (3.1, 4.1) des ersten Heizelementes (1.1).</p> |
