EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

투영 광학계와 액체를 통해 기판에 패턴을 투영하여 노광할 때, 불필요한 액체를 제거하여 원하는 디바이스 패턴을 기판 상에 형성할 수 있는 노광 장치를 제공한다. 노광 장치는 투영 광학계와 액체를 통해 기판 (P) 상에 패턴의 이미지를 투영하고, 기판 (P) 을 노광하는 노광 장치로서, 투영 광학계의 이미지면 부근에 배치된 부품 (7) 상에 잔류한 액체를 제거하는 액체 제거 기구 (40) 를 구비하고 있다.