| 摘要 |
<p>Procédé de formation d'une cellule photovoltaïque, comprenant les étapes suivantes consistant à a) former un motif de structuration, comportant au moins deux cavités et au moins un pilier, à partir de la surface d'un substrat semi-conducteur (11) ; b) former à partir de la surface du substrat une zone dopée (21) selon le type de conductivité opposé à celui du substrat, de façon que le pilier soit formé de ladite zone dopée ; c) former une couche tampon (25) au fond d'au moins une cavité ; et d) former un contact conducteur (27) avec la zone dopée située dans le pilier, par dépôt sérigraphique dans ladite au moins une cavité sur la couche tampon et traitement thermique de reprise de contact.</p> |
