| 摘要 |
<p>【課題】サセプタとシャワーヘッドの間の温度差を抑制する。【解決手段】基板を処理する処理室と、処理室内に配置され基板を載置する基板載置面を表面に有すると共に第１のヒータを有する基板載置部と、第２のヒータを有するとともに基板載置面と対向する位置に設けられ基板載置面と対向する対向面を有するシャワーヘッドと、シャワーヘッドを介して基板載置面に載置された基板を処理する処理ガスを供給する処理ガス供給系と、処理室内の雰囲気を排出する排気系と、基板載置面に基板を載置した後、処理ガス供給系から処理ガスが供給されるときに、基板載置部の温度を所定の温度とし、対向面と基板載置部の温度差を所定の範囲内とするよう、第１のヒータの出力及び第２のヒータの出力を制御する制御部と、を有するように基板処理装置を構成する。【選択図】図１</p> |
