一种匀强磁场的面接触磁流变平面抛光装置及方法

摘要

本发明公开了一种匀强磁场的面接触磁流变平面抛光装置及方法。所述装置包括抛光头、固定在主轴上的抛光槽、设于抛光槽下方的磁极，磁极与抛光槽的底部外表面保持一定间隙；所述抛光头包括工件轴、固定在工件轴下端的不导磁夹持器，所述不导磁夹持器与工件轴之间设有软磁板；所述抛光头位于抛光槽上方；磁极与软磁板之间存在匀强磁场；所述抛光槽中装有磁流变液。本发明的装置及方法可实现超光滑大尺寸平面元件的大面积均匀抛光，有效提高抛光效率；可降低工件运动方式的复杂程度，从而简化设备结构；使磁场不易衰减，可获得磁极间隙约30mm匀强磁场；可简单地实现消磁。

主权项

一种应用匀强磁场的面接触磁流变平面抛光装置，它包括抛光头、固定在主轴（8）上的抛光槽（1）、设于抛光槽（1）下方的磁极（10），其特征在于，所述抛光头包括工件轴（6）和固定在工件轴（6）下端的不导磁夹持器（3），所述不导磁夹持器（3）与工件轴（6）之间设有软磁板（5）；所述抛光头位于抛光槽（1）上方；磁极（10）与软磁板（5）之间存在匀强磁场（11）；所述抛光槽（1）中装有磁流变液（2）。