发明名称 研磨监视方法、研磨方法、研磨监视装置及研磨装置
摘要 本发明提供一种能够正确地监视研磨的进展、还能够检测正确的研磨终点的方法。本方法在基板的研磨中对基板照射光,受光来自基板的反射光,对各波长测量反射光的强度,由强度的测量值生成表示强度与波长之间的关系的波谱,计算出每规定时间的波谱的变化量,将波谱的变化量沿着研磨时间累积而计算出波谱累积变化量,基于波谱累积变化量监视基板的研磨的进展。
申请公布号 CN102194690B 申请公布日期 2015.05.20
申请号 CN201110049961.8 申请日期 2011.03.02
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 小林洋一
分类号 H01L21/321(2006.01)I;B24B37/005(2012.01)I;B24B37/013(2012.01)I;B24B49/04(2006.01)I;B24B49/12(2006.01)I 主分类号 H01L21/321(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 徐殿军
主权项 一种研磨监视方法,监视具有膜的基板的研磨,其特征在于,在基板的研磨中对上述基板照射光;接收来自上述基板的反射光;按各波长测量上述反射光的强度;由上述强度的测量值生成表示强度与波长之间的关系的波谱;计算出每规定时间的上述波谱的变化量;将上述波谱的变化量沿着研磨时间累积而计算出波谱累积变化量;基于上述波谱累积变化量监视上述基板的研磨的进展。
地址 日本东京