发明名称 |
掩模数据产生方法、执行该方法的程序和信息处理装置 |
摘要 |
一种掩模数据产生方法,用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后通过使用另一掩模将曝光光照射到基板的多次曝光中使用的多个掩模的数据。该方法包含以下步骤:获得包含多个图案元素的图案的数据,确定图案元素的配置限制条件的规划,分析图案元素之间的距离,确定距离限制条件的规划,以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量并由此划分图案。 |
申请公布号 |
CN104641290A |
申请公布日期 |
2015.05.20 |
申请号 |
CN201380045839.0 |
申请日期 |
2013.09.03 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
荒井祯;行田裕一 |
分类号 |
G03F1/70(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/70(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
欧阳帆 |
主权项 |
一种掩模数据产生方法,用于产生在使用掩模将曝光光照射到基板上并然后使用另一掩模将曝光光照射到基板上的多次曝光中使用的多个掩模的数据,其特征在于,该方法包含由计算机执行的以下步骤:获得包含多个图案元素的图案的数据,确定图案元素的配置限制条件的规划,分析图案元素之间的距离,确定距离限制条件的规划,以及在成本函数中应用被配置为表示图案划分的数量的第一变量和被配置为表示与所有图案元素有关的距离的第二变量,并由此划分图案。 |
地址 |
日本东京 |