一种QDF直接还原工艺

摘要

本发明涉及一种QDF直接还原工艺，包括以下步骤：将含金属原料与还原剂粉料混匀，装入各还原室，还原过程中，还原室和被还原物料均保持静止状态；燃烧室内燃料和助燃气体燃烧产生的热量均匀加热还原室内的物料，使含金属原料和还原剂进行还原反应；还原室为窄长的一段式反应器。本发明还原室和被还原物料均为静止状态，对粒状原料的强度要求降低，提高了制粒工序生产效率，本发明还原时间可以延长，提高还原产品的金属化率。本发明的还原室无预热区及冷却区，温度均匀、气氛均匀一致，提高还原产品的整体质量。该直接还原工艺具有原料适应范围广、温度场均匀、还原过程易控制、产品金属化率高、产量高等显著优点。

主权项

一种QDF直接还原工艺，其特征在于，采用燃烧室加热还原室生产高金属化率产品，包括以下工艺步骤：ST1：含金属原料与还原剂粉料混匀，装入各还原室，在还原室中物料处于分散、均匀分布的状态，装料完毕后密封，在整个还原过程中，还原室和被还原物料均保持静止状态；ST2：点燃所述燃烧室内持续供应的燃料和助燃气体，产生的热量均匀加热还原室内的物料，使含金属原料和还原剂在还原室内进行还原反应；所述还原室为窄长的一段式反应器，整个炉膛温度均匀一致，还原性气氛均匀一致；ST3：待还原室物料反应完毕后，从还原室出料。