反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明提供的反应腔室及等离子体加工设备，其包括晶片支撑件、维护口、第一旋转轴、密封板和悬臂支撑件，其中：维护口开设于反应腔室的侧壁，用以供晶片支撑件通过；第一旋转轴可旋转地设置在反应腔室的侧壁外侧，且位于维护口的上方；密封板与第一旋转轴连接，第一旋转轴通过旋转带动密封板摆动，以使密封板位于密封维护口的第一位置或者开启维护口的第二位置；晶片支撑件通过悬臂支撑件安装于密封板上，且在密封板处于第一位置时，晶片支撑件位于反应腔室内的承载位置；在密封板自第一位置摆动至第二位置的过程中，晶片支撑件经由维护口旋转至位于反应腔室之外的维护位置。本发明提供的反应腔室，其便于操作人员对晶片支撑件进行安装和维护。

主权项

一种反应腔室，其特征在于，所述反应腔室，包括：晶片支撑件、维护口、第一旋转轴、密封板和悬臂支撑件，其中：所述维护口开设于所述反应腔室的侧壁，用以供所述晶片支撑件通过；所述第一旋转轴可旋转地设置在所述反应腔室的侧壁外侧，且位于所述维护口的上方；所述密封板与所述第一旋转轴连接，所述第一旋转轴通过旋转带动所述密封板摆动，以使所述密封板位于密封所述维护口的第一位置或者开启所述维护口的第二位置；所述晶片支撑件通过所述悬臂支撑件安装于所述密封板上，且在所述密封板处于所述第一位置时，所述晶片支撑件位于所述反应腔室内的承载位置；在所述密封板自所述第一位置摆动至所述第二位置的过程中，所述晶片支撑件经由所述维护口旋转至位于所述反应腔室之外的维护位置。