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发明名称
赤外線反射基板の製造方法
摘要
<p>反射層と保護層とを積層した赤外線反射基板の製造方法であって、前記反射層と、電子線が照射されることによって架橋される高分子を含有する前記保護層とを積層するステップと、前記保護層に電子線を照射するステップと、を備えた赤外線反射基板の製造方法が提供される。</p>
申请公布号
JPWO2013122227(A1)
申请公布日期
2015.05.18
申请号
JP20130558759
申请日期
2013.02.15
申请人
发明人
分类号
G02B5/26;B32B7/02
主分类号
G02B5/26
代理机构
代理人
主权项
地址
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