具有冷却真空围阻体的热壁反应器;HOT WALL REACTOR WITH COOLED VACUUM CONTAINMENT

摘要

于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施例中，用于处理基板的设备包含一室主体，该室主体封闭一处理体积，该室主体包括一室地板、与该室地板耦合的一室壁、及与该室壁可移除地耦合的一室盖，其中该室地板、该室壁及该室盖之至少一者包括用于一热控制媒体之一流动的通路；一加热板，该加热板与该室地板相邻且间隔开来设置；一套管，该套管与该室壁相邻且间隔开来设置，该套管藉由该加热板而受支持；及一第一封性元件，该第一封性元件在该室壁及该室盖间的一第一介面处设置。; a heater plate disposed adjacent to and spaced apart from the chamber floor; a sleeve disposed adjacent to and spaced apart from the chamber wall, the sleeve supported by the heater plate; and a first sealing element disposed at a first interface between the chamber wall and the chamber lid.