蚀刻液组成物及蚀刻方法;ETCHANT COMPOSITION AND ETCHING METHOD

摘要

一种蚀刻液组成物，用于蚀刻含铜金属层。蚀刻液组成物包含过氧化氢、质子源、有机硷化合物与胺基酸类化合物或其盐类，其中，质子源排除含氟酸，有机硷化合物系具有至少一个氮原子与至少一个碳原子的链状化合物，且有机硷化合物的pH大于8，胺基酸类化合物为单胺羧酸，单胺羧酸系只含一个氮原子及具有至少一个-COOH的化合物。藉此，蚀刻液组成物在低铜浓度到高铜浓度皆能维持优良的蚀刻表现，而具有较长的蚀刻寿命，并可符合环境诉求。