高流動水素化スチレン−ブタジエン−スチレンブロックコポリマーおよび用途

摘要

本発明は、新規の高メルトフロー、低粘度の選択的に水素化されたスチレン−ブタジエン−スチレン（ｈＳＢＳ）または選択的に水素化された制御分布スチレン−ブタジエン／スチレン−スチレン（ｈＳＢＳＳ）ブロックコポリマーのための特有の用途に関し、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に従った上記ブロックコポリマーのメルトフローレートは、少なくとも１００ｇ／１０分（２３０℃／２．１６ｋｇ）である。これらのブロックコポリマーは、例外的な高メルトフローレートを有する一方で高い強度および弾性も備えている。スチレン系ブロックコポリマーのメルトフローレートは通常は低いため、本発明以前は通常可能ではなかった用途を、本発明のスチレン系ブロックコポリマーは有する。また本発明は、繊維ガラスのｈＳＢＳまたはｈＳＢＳＳ強化マット、低粘度のｈＳＢＳまたはｈＳＢＳＳの工業用被覆、ポリアルファ−オレフィンとブレンドしたｈＳＢＳまたはｈＳＢＳＳから調製されるホットメルト接着剤、およびｈＳＢＳまたはｈＳＢＳＳを用いる弾性フィルム、繊維および不織布構造物など、各種使用分野を包含する。