用于测量投影物镜畸变的标记结构及方法

摘要

本发明公开了一种用于测量投影物镜畸变的标记结构，形成在一掩模上，该掩模上定义有第一方向及与该第一方向垂直的第二方向，该标记结构包括第一图形区域与第二图形区域，所述第一图形区域的中心位置处设置一独立标记，所述第二图形区域由阵列标记组成，所述第一图形区域与第二图形区域沿该第二方向排列。本发明同时公开了一种用于测量投影物镜畸变的方法，包括使独立标记与投影物镜物方视场中心位置重合；将工件台位置分别设置为x_ws＝x-M×X_i，j，y_ws＝y-M×Y_i，对所述独立标记进行曝光，其中，M为投影物镜倍率，x，y为硅片曝光场中心位置；使第二图形区域的中心或掩模的中心与投影物镜物方视场中心位置重合，将工件台位置设置为x_ws＝x，y_ws＝y后曝光；检测套刻标记的位置误差Δx_i，j，Δy_i，j；计算投影物镜畸变。

主权项

一种测量投影物镜畸变的方法，利用一种用于测量投影物镜畸变的标记结构，该标记结构是形成在一掩模上，该掩模上定义有第一方向及与该第一方向垂直的第二方向，该标记结构包括：第一图形区域，所述第一图形区域的中心位置处设置一独立标记；以及至少一第二图形区域，所述第二图形区域由阵列标记组成，所述第一图形区域与第二图形区域沿着该第二方向排列，其特征在于：S1：使所述独立标记与所述投影物镜物方视场中心位置重合；S2：将工件台位置分别设置为x_ws＝x‑M×X_i，j，y_ws＝y‑M×Y_i，j对所述独立标记进行曝光，其中，M为所述投影物镜倍率，x，y为硅片曝光场中心位置；以物方视场的x，y轴为坐标建立坐标系，掩模上标记图形区内所有标记的位置分别可表示为(X_i，j，Y_i，j)，其中，i取2，3，4，......，m，j取2，3，4，......，n；S3：使所述第二图形区域的中心与投影物镜物方视场中心位置重合，将工件台位置设置为x_ws＝x，y_ws＝y后曝光；S4：检测套刻标记的位置误差Δx_i，j，Δy_i，j；S5：计算投影物镜畸变；Δx_i，j＝Tx+D₃×((M×X_i，j)²+(M×Y_i，j)²)×X_i，j+D₅×((M×X_i，j)²+(M×Y_i，j)²)²×X_i，jΔy_i，j＝Ty+D₃×((M×X_i，j)²+(M×Y_i，j)²)×Y_i，j+D₅×((M×X_i，j)²+(M×Y_i，j)²)²×Y_i，j其中，Tx，Ty表示像面平移；D₃表示投影物镜三阶畸变；M表示投影物镜倍率；D₅表示投影物镜五阶畸变；X_i，j，Y_i，j表示掩模基底上阵列标记图形区内第i行第j列标记的位置坐标；Δx_i，j，Δy_i，j表示独立标记与阵列标记之间的套刻误差。