具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括上端敞口的盛液反应槽；镂空隔板设在盛液反应槽内下部，在镂空隔板四周分别设有矩形槽口，在镂空隔板上设有多个条形通孔，所述盛液反应槽内腔通过镂空隔板分成上下连通的两个腔；双叶片搅板铰接在盛液反应槽内位于镂空隔板的下方，在双叶片搅板两端对称连接有两个立杆，立杆下端通过Y型支架与双叶片搅板的两个叶片固接，两个立杆上端分别延伸到盛液反应槽外面。有益效果是：能够实现在晶片篮静止不动的前提下完成对晶片的清洗，可有效避免晶片篮静止清洗过程中的反应速率不均匀和提拉晶片篮清洗过程中容易产生碰撞的问题，清洗效果好，晶片篮不会产生碰撞，成品率高。

主权项

一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括上端敞口的盛液反应槽；其特征是：镂空隔板，设在盛液反应槽内下部，在镂空隔板四周分别设有矩形槽口，在镂空隔板上设有多个条形通孔，所述盛液反应槽内腔通过镂空隔板分成上下连通的两个腔；双叶片搅板，铰接在盛液反应槽内位于镂空隔板的下方，用于搅动盛液反应槽内的清洗液；在双叶片搅板两端对称连接有两个立杆，立杆下端通过Y型支架与双叶片搅板的两个叶片固接，两个立杆上端分别延伸到盛液反应槽外面。