发明名称 金属薄膜转印材料及其制造方法
摘要 本发明可获得具有绝缘性金属膜的金属薄膜转印材料,所述绝缘性金属膜具有充分的电波透射性以及绝缘性,且具有较高的耐氧化性、耐羟基化性等耐腐蚀性,同时可维持良好的金属外观。本发明涉及一种金属薄膜转印材料,其是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的,绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm~100nm,全光线透光率为Tr(%)时,满足Tr≥87.522×Exp(-0.0422×X)的关系;或者是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、金属薄膜层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的,金属薄膜层的附着量为15ng/cm<sup>2</sup>~700ng/cm<sup>2</sup>,绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm~100nm,全光线透光率为Tr(%)时,满足Tr≥87.522×Exp(-0.0422×X)的关系。
申请公布号 CN103003063B 申请公布日期 2015.05.13
申请号 CN201180005987.0 申请日期 2011.01.18
申请人 东丽薄膜先端加工股份有限公司 发明人 饭岛俊和;田中范夫;堤田裕二;中野成
分类号 B32B15/08(2006.01)I 主分类号 B32B15/08(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军
主权项 一种金属薄膜转印材料,其是在透明基材膜的至少单面上按照脱模树脂层、保护树脂层、绝缘性金属薄膜层以及粘接剂层的顺序层叠各层而得到的,绝缘性金属薄膜层的厚度X为5nm~100nm,全光线透光率为Tr(%)时,满足Tr≥87.522×Exp(‑0.0422×X)的关系。
地址 日本东京都