Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット及びその製造方法

摘要

金属成分として、Ｃｒ０．５〜４５ｍｏｌ％、残余Ｃｏを含有し、非金属成分として、Ｔｉ酸化物を含む２種以上の酸化物を含有するスパッタリングターゲットにおいて、その組織が、Ｃｏ中に少なくともＴｉ酸化物を含む酸化物が分散した領域（非Ｃｒ系領域）と、Ｃｒ又はＣｏ−Ｃｒ中にＴｉ酸化物以外の酸化物が分散した領域（Ｃｒ系領域）とからなり、前記Ｃｒ系領域に前記非Ｃｒ系領域が点在していることを特徴とするスパッタリングターゲット。粗大な複合酸化物粒の形成を抑制し、スパッタの際のパーティクル発生が少ないグラニュラー膜形成用スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。【選択図】図１