化学气相沉积装置及基片托盘和旋转轴

主权项

一种化学气相沉积装置，包含一处理腔室，其中所述处理腔室内包括：一旋转轴，所述旋转轴包括旋转主轴和位于所述旋转主轴上方的连接头支撑部，所述连接头支撑部包括一顶表面和与所述顶表面呈一定斜度的外周面，所述旋转主轴包括一主轴侧面，所述顶表面或所述外周面或所述主轴侧面设有凹陷部；一基片托盘，所述基片托盘包括一上表面和一下表面，所述基片托盘的下表面上设置有向所述基片托盘内部凹陷延伸的凹槽，所述凹槽包括一具有一定斜度的内周壁，所述凹槽内还设有凸起部；所述基片托盘可分离地放置在所述连接头支撑部上，在此位置下，所述旋转轴的连接头支撑部插接于所述基片托盘的凹槽内，并且所述连接头支撑部的外周面与所述凹槽的内周壁至少部分地接触以支撑所述基片托盘，所述凹槽内的凸起部与所述凹陷部相互卡接或抵靠，以产生一力量以带动或推动所述旋转轴和所述基片托盘共同旋转。