| 发明名称 | 一种用于等离子体处理装置的载片台 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI484590 | 申请公布日期 | 2015.05.11 |
| 申请号 | TW101143731 | 申请日期 | 2012.11.22 |
| 申请人 | 中微半导体设备（上海）有限公司 | 发明人 | 陶铮;佩尔斯 凯文;松尾裕史 |
| 分类号 | H01L21/683 | 主分类号 | H01L21/683 |
| 代理机构 | 代理人 | 林志青 台北市信义区松隆路102号18楼之1 | |
| 主权项 | 一种应用于等离子体处理装置的用于承载基片的载片台，其中，所述基片位于所述载片台上方，其特征在于，所述载片台包括：一第一电极，其与具有第一频率的一射频电源连接，用于产生等离子体，其中设置有一个或多个真空空洞；以及一静电吸盘，其位于所述第一电极上方，用于夹持基片。 | ||
| 地址 | 中国 | ||