研磨用組成物、その製造方法、シリコン基板の製造方法、及びシリコン基板

摘要

研磨用組成物は、原液調製工程、原液ろ過工程、希釈工程、及び希釈液ろ過工程を通じて得られるろ過後の希釈液により構成される。原液調製工程では、研磨用組成物の原料を混合して原液を調製することが行われる。原液ろ過工程では、原液をろ過することが行われる。希釈工程では、ろ過後の原液を希釈して希釈液を得ることが行われる。希釈液ろ過工程では、希釈液をろ過することが行われる。研磨用組成物は、シリコン基板を製造するべくシリコン基板原料を研磨する用途で例えば使用される。