| 摘要 |
直列に併設されたプラズマ前処理装置、成膜装置からなる高速搬送される基材のローラ式連続蒸着膜成膜装置において、チャンバ３内に基材搬送室１２Ａ、前処理室１２Ｂ、成膜室１２Ｃが形成され、基材Ｓは巻き出しローラ１３から、ガイドロール１４ａ〜１４ｄを介して直列に併設されたプラズマ前処理ローラ２０及び成膜ローラ２５に巻きつけられ、巻き取りロール１５で巻き取られる。前処理装置では、供給されるプラズマ形成ガスをプラズマ供給ノズル２２ａ、２２ｂから前処理ローラとプラズマ供給ノズルと磁気形成手段であるマグネット２１とで囲まれた空隙内に、基材Ｓに向けてプラズマを供給し、かつプラズマＰを電気的に正電位に設定し、基材表面側に配置された電極間に電力が供給され、プラズマＰが発生し、基材Ｓの表面に活性のある前処理表面が形成される。その前処理した基材の前処理面に物理蒸着法等の成膜装置により無機酸化物を高速で成膜することができる。 |
