发明名称 |
金属又は半導体融液の精製方法、及び真空精製装置 |
摘要 |
金属又は半導体融液の精錬において、精錬効率を損なわず、融液流動の不安定によって坩堝の凹凸を伴う損耗を抑制し、坩堝からの湯漏れが起こらないように、安全で長時間の操業を可能とする。坩堝の加熱方法として、交流の抵抗加熱ヒーターを使用することで、加熱保持すると同時に、抵抗加熱ヒーターにより生成した回転磁場により融液を撹拌する金属又は半導体融液の精製方法において、その回転磁場によって生じた融液の回転により、融液と坩堝底面との境界において流動不安定が発生しないように、融液の動粘性係数を&ngr;(m2/sec)、融液の液面半径をR(m)、及び融液の回転角速度を&OHgr;(rad/sec)としたときに、Re=R?(&OHgr;/&ngr;)^(1/2)で定義されるレイノルズ数Reの値が600を超えないように操業することを特徴とする、金属又は半導体融液の精製方法であり、また、この精製方法に好適な真空精製装置である。 |
申请公布号 |
JPWO2013118249(A1) |
申请公布日期 |
2015.05.11 |
申请号 |
JP20130557273 |
申请日期 |
2012.02.06 |
申请人 |
シリシオ フェロソラール ソシエダーダ リミターダ |
发明人 |
岸田 豊;堂野前 等;近藤 次郎;後藤 潔;大橋 渡 |
分类号 |
C01B33/037;C22B9/04;C22B61/00 |
主分类号 |
C01B33/037 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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