一种用于等离子体处理装置的载片台

主权项

一种应用于等离子体处理装置的用于承载基片的载片台，其中，该基片位于该载片台上方，其中该载片台包括：第一电极，其与具有第一频率的射频电源连接，用于产生等离子体，静电吸盘，其位于该第一电极上方，其中，该静电吸盘包括：第一电介质层，其埋设有用于产生静电吸力的电极；第二电介质层，其位于该第一电介质层的下方，该第二电介质层至少包括对应于基片中央区域的第一区域，对应于基片边缘区域的第三区域，以及位于该第一区域和该第三区域之间的第二区域；驱动装置，其用于可选地驱动该第一区域、第二区域和第三区域的其中之一进行垂直方向上的伸缩。