发明名称 | 基板液处理装置及基板液处理方法以及记录有基板液处理程式之电脑可读取之记录媒体 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI484578 | 申请公布日期 | 2015.05.11 |
申请号 | TW100144212 | 申请日期 | 2011.12.01 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 中森光则;上向秀朋;户岛孝之 |
分类号 | H01L21/67 | 主分类号 | H01L21/67 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种基板液处理装置,使用稀释之拨水处理液而对基板施予拨水处理,其特征为具有:拨水处理液供给源,其系用以供给拨水处理液;第1稀释液供给源,其系用以供给不用加水分解上述拨水处理液而可以稀释之第1稀释液;混合槽,其系用以混合从上述拨水处理液供给源被供给之拨水处理液,和从上述第1稀释液供给源被供给之第1稀释液,而生成第1稀释拨水处理液;基板处理室,其系用以对基板施予拨水处理;第1供给流路,其系用以从上述混合槽供给上述第1稀释拨水处理液;第1供给机构,其系用以从上述混合槽通过上述第1供给流路而将上述第1稀释拨水处理液供给至上述基板处理室;第2稀释液供给源,其系用以供给稀释上述拨水处理液之第2稀释液;第2供给流路,其系用以从上述第2稀释液供给源供给上述第2稀释液;第2供给机构,其系用以从上述第2稀释液供给源供给上述第2稀释液至上述第2供给流路;及混合部,其系被设置在上述第1供给流路,用以混合上述第1稀释拨水处理液和上述第2稀释液,而生成第2稀释拨水处理液。 | ||
地址 | 日本 |