| 发明名称 | 曝光装置、器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。 | ||
| 申请公布号 | CN102012641B | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201010240704.8 | 申请日期 | 2004.07.26 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 许海兰 |
| 主权项 | 一种通过形成于基板上的一部分的液浸区域的液体将曝光用光照射到基板对上述基板进行曝光的曝光装置，其特征在于包括：投影光学系统，将图形像投影到基板上；保持上述基板并且可以移动的可动构件；位置检测装置，检测上述可动构件的位置；和液体供给机构，将液体供给到上述投影光学系统与基板之间，上述位置检测装置的错误有产生无法于上述投影光学系统下保持液体的上述投影光学系统与上述可动构件的位置关系的异常的可能性，上述液体供给机构在上述位置检测装置发生错误时停止液体的供给。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||