基板处理设备

摘要

本发明涉及一种基板处理设备，更详细地说，涉及一种执行涂敷、显影、烘烤工序的基板处理设备。本发明的基板处理设备包括：指引部、工序处理部、以及第1路径部。本发明的基板设备能通过能分散搬运机器手的负荷而提高基板生产量，并且能选择性地执行正型显影工序和负型显影工序而提高基板生产量。

主权项

一种基板处理设备，包括：指引部，其具有放置装有基板的容器的端口以及指引机器手；工序处理部，其具有显影处理部，所述显影处理部中以相互分层地方式配置有对基板进行显影工序的第1显影处理室和第2显影处理室；以及第1路径部，其配置于所述显影处理部与所述指引部之间，其中，所述第1显影处理室包括：显影模块；第1加热模块；以及第1主搬运机器手，其配置于能靠近所述显影模块和所述第1加热模块的移动通路上，所述第1路径部包括：第2加热模块；第1缓冲模块；冷却模块；第2缓冲模块；以及第1缓冲搬运机器手，其配置于能靠近所述第2加热模块、所述第1缓冲模块、所述冷却模块以及所述第2缓冲模块的移动通路上。