化学强化用浮法玻璃

摘要

本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。

主权项

一种浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，该顶面的氢浓度比该底面的氢浓度低，板厚为1.5mm以下，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，所述深度5～10μm处的标准化氢浓度为深度5～10μm处的氢浓度除以深度50～55μm处的氢浓度所得的值；在此，深度5～10μm处的氢浓度及深度50～55μm处的氢浓度为在以下的分析条件下测得的值，(分析条件)测定装置：具有四极质谱分析仪的次级离子质谱分析装置初级离子种类：Cs⁺初级加速电压：5.0kV初级离子电流：1μA初级离子入射角(与试样面的垂直方向的角度)：60°光栅尺寸：200×200μm²检测区域：40×40μm²次级离子极性：负使用中和用的电子枪。