一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法

摘要

本发明公开了一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，在高真空镀膜机中利用电阻加热蒸发方法蒸发AlF₃；以AlF₃作为低折射率材料，以其他氟化物作为高折射率材料，通过石英晶体振荡方法控制沉积在基板上的高低折射率材料薄膜厚度，制备具有特定性能的光学膜系；在膜系表面沉积特定厚度的MgF₂膜层，提高AlF₃薄膜深紫外波段的时效性，膜层厚度通过计算机优化获得。本发明可以提高以AlF₃为镀膜材料的膜系在深紫外以及真空紫外波段的时效性。

主权项

一种提高热蒸发制备AlF₃薄膜的深紫外以及真空紫外波段时效性的方法，其特征在于实现步骤如下：步骤(1)、在高真空镀膜机中利用电阻加热蒸发方法蒸发AlF₃制备AlF₃薄膜，电阻加热蒸发通过加热金属坩埚实现，金属坩埚由钨、钼或者钽材料制备；步骤(2)、以AlF₃作为低折射率材料，以其他氟化物作为高折射率材料制备具有特定性能的光学膜系，AlF₃与高折射率材料的厚度通过计算机优化确定，薄膜厚度可以通过石英晶体振荡光学控制方法控制；步骤(3)、在膜系表面沉积特定厚度膜层MgF₂，提高AlF₃薄膜深紫外波段的时效性，所需的MgF₂材料的厚度在30nm以上。