| 发明名称 | 一种用于钛的化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 一种用于钛的化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及重量百分含量：氧化剂1~5wt%、表面活性剂0.01~4wt%、有机添加剂0.01~3wt5、抛光颗粒0.2~30wt%、余量为pH调节剂和水。本发明中的化学机械抛光液利用不同成分化学机械抛光液对钛金属速率可控、表面质量好且低腐蚀的抛光，可满足工业中对于钛金属表面质量的需求。 | ||
| 申请公布号 | CN104593776A | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201410836073.4 | 申请日期 | 2014.12.24 |
| 申请人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明人 | 梁晨亮;刘卫丽;宋志棠 |
| 分类号 | C23F3/04(2006.01)I | 主分类号 | C23F3/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人 | 梁海莲 |
| 主权项 | 一种用于钛金属的化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下原料组分及百分含量：<img file="FDA0000642726780000011.GIF" wi="715" he="459" />余量为pH调节剂和水。 | ||
| 地址 | 201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 | ||