发明名称 |
金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管,为解决现有产品基极电阻R<sub>B</sub>大等缺陷而设计。本发明金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管主要包括Si集电区、局部介质区、基区、基区低电阻金属硅化物层、重掺杂多晶硅发射区、多晶硅发射区低电阻金属硅化物层、发射区-基区隔离介质区、重掺杂单晶发射区、接触孔介质层、发射极金属电极以及基极金属电极。基区低电阻金属硅化物层延伸至发射区-基区隔离介质区外侧。本发明公开一种金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管制备方法,用于制备上述双极晶体管。本发明金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管及其制备方法有效地降低了基极电阻R<sub>B</sub>,工艺步骤简单,成本低。 |
申请公布号 |
CN102790081B |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201210161187.4 |
申请日期 |
2012.05.22 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
付军;王玉东;张伟;李高庆;吴正立;崔杰;赵悦;刘志弘 |
分类号 |
H01L29/737(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/737(2006.01)I |
代理机构 |
北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 |
代理人 |
张岱 |
主权项 |
一种金属硅化物自对准锗硅异质结双极晶体管,所述晶体管主要包括Si集电区、局部介质区、Si集电区和局部介质区上方的基区、基区上方的重掺杂多晶硅发射区和发射区-基区隔离介质区、重掺杂多晶硅发射区表面上的多晶硅发射区低电阻金属硅化物层、发射区-基区隔离介质区围成的发射区窗口下的重掺杂单晶发射区、基区表面的基区低电阻金属硅化物层、接触孔介质层、发射极金属电极以及基极金属电极;其中,所述基区由单晶锗硅基区、重掺杂单晶锗硅基区和重掺杂多晶锗硅基区组成;所述发射区-基区隔离介质区由L形氧化硅层和氮化硅内侧墙构成,其特征在于:所述基区低电阻金属硅化物层一直延伸至发射区-基区隔离介质区外侧,所述基区低电阻金属硅化物层的下表面低于所述重掺杂多晶硅发射区的下表面。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号 |