| 发明名称 | 一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法，涉及显示技术领域，为解决阵列基板的制作过程中因掩膜次数较多而导致制作阵列基板的效率较低的问题。所述阵列基板包括：衬底基板，设于衬底基板上方的有源层，设于有源层上方的源/漏极，在有源层和源/漏极之间设有使源/漏极与有源层导通的欧姆接触层。所述显示面板包括上述技术方案所提的阵列基板。此外，本发明还公开了上述阵列基板的制作方法。制作本发明提供的阵列基板或显示面板时，可以减少阵列基板制作过程中掩膜的次数，提高制作阵列基板的效率。 | ||
| 申请公布号 | CN104600082A | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201510018887.1 | 申请日期 | 2015.01.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 王珂 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，设于所述衬底基板上方的有源层，设于所述有源层上方的源/漏极，在所述有源层和所述源/漏极之间设有使所述源/漏极与所述有源层导通的欧姆接触层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||