基板处理装置及半导体装置的制造方法以及记录媒体

摘要

本发明，系以藉由对于基板收容器内适宜供给惰性气体来将起因于基板收容器内之气体氛围改变所导致的对于晶圆之影响减轻一事，作为目的。系提供一种基板处理装置(100)，其系具备有：清洗机构，系被设置在配置基板收容器(110)之载置部(114)以及收容棚(105)中的至少其中一者处，并供给惰性气体；和监视部，系对于经由前述清洗机构所供给至前述基板收容器(110)处之惰性气体之流量和预先所设定的基准值作比较，并输出代表比较后的结果之讯号；和管理部，系因应于从前述监视部所输出之前述讯号来对于前述基板收容器(110)之使用进行管理。