成膜方法、记忆媒体及成膜装置;METHOD OF DEPOSITING A FILM, RECORDING MEDIUM, AND FILM DEPOSITION APPARATUS

摘要

一种在真空容器内针对基板形成薄膜的成膜方法，其具备：第1工序，系包含将气体电浆化所得到的关于该薄膜品质的活性基供给至基板的工序，并在基板上成膜第1膜；以及第2工序，系包含将气体电浆化所得到的关于该薄膜品质的活性基藉由调整控制参数而以每单位膜厚的活性基种之供给量会较该第1工序中的每单位膜厚的活性基之第1供给量要多的方式来供给至基板的工序，并在该第1膜上成膜为与该第1膜相同种类之膜的第2膜。