| 发明名称 |
负型厚膜光阻组成物及其用途;NEGATIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND USE THEREOF |
| 摘要 |
本发明系有关于一种负型厚膜光阻组成物，包括：(A)20至50重量百分比之硷可溶树脂，其可由复数种单体聚合而成，其中，该些单体包含如式(1A)及式(1B)所示之化合物，且基于该些单体占硷可溶树脂之重量比，式(1A)化合物与式(1B)化合物两者共占20至60%，且于式(1A)及式(1B)之X各自独立为氢、甲基或乙基，(B)10至30重量百分比之交联剂，其可为一具有至少一乙烯性不饱和双键之双酚芴衍生物单体；(C)5至15重量百分比之光起始剂；以及(D)余量溶剂。本发明亦有关于一种上述负型厚膜光阻组成物之用途。; (C) 5 to 15 wt% of photo initiator; and (D) residual solvent. The present invention also relates to a use of the above-mentioned negative-type photoresist compound for thick film. |
| 申请公布号 |
TW201516569 |
申请公布日期 |
2015.05.01 |
| 申请号 |
TW102138621 |
申请日期 |
2013.10.25 |
| 申请人 |
台湾永光化学工业股份有限公司 EVERLIGHT CHEMICAL INDUSTRIAL CORPORATION |
发明人 |
陈怡静 CHEN, YI JIN;周乃天 CHOU, NAI TIEN;黄新义 HUANG, HSIN YI |
| 分类号 |
G03F7/038(2006.01);G03F7/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
吴冠赐苏建太林志鸿 |
| 主权项 |
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| 地址 |
台北市大安区敦化南路2段77号6楼 TW |
