鋶盐、化学增幅型光阻组成物及图案形成方法;SULFONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS

摘要

一种通式(1)表示之鋶盐;(R 0 为氢原子或一价烃基，R 01 及R 02 为氢原子或一价烃基，R 0 、R 01 及R 02 中之至少1个具有环状结构。R 2 、R 3 及R 4 表示一价烃基。R 2 、R 3 及R 4 中的任2个以上也可以彼此键结并与式中之硫原子一起形成环。L表示单键，或和相邻位置的氧原子一起形成的酯键、磺酸酯键、碳酸酯键或胺甲酸酯键中之任一者。) 本发明之光阻组成物所含之羧酸鋶盐，作为扩散控制剂(淬灭剂)而良好地作用，结果可以建构LWR小且矩形性优异之高解像性的图案轮廓。