描绘装置、基板处理系统及描绘方法;DRAWING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND DRAWING METHOD

摘要

本发明之基板处理系统中，于描绘装置中，藉由控制摄像部及移动机构而对基板之各描绘区域之复数个对准标记(alignment mark)进行摄影。在良否取得部系根据摄像部之摄影结果而加以判定各描绘区域之位置或者变形之良否。而且，藉由控制描绘头及移动机构，仅在判定为良之正常描绘区域进行电路图案之描绘。如此，在描绘装置中，判定基板上之复数个描绘区域之各者的良否，且将判定结果加以利用在紧随其后之电路图案之描绘中，藉此可缩短于针对基板之电路图案的描绘之所需的时间。