| 发明名称 | 形成自我对准之叠对标记之方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI483289 | 申请公布日期 | 2015.05.01 |
| 申请号 | TW101126456 | 申请日期 | 2012.07.23 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 奈尔 维奈;普拉特 大卫;侯克 克里斯多夫;豪斯利 理查 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/66;G03F9/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 代理人 | 吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 | |
| 主权项 | 一种形成自我对准的叠对标记(self-aligned overlay mark)的方法，包括：提供位在一基材上的一第一区域和一第二区域，和位于该第一区域和该第二区域之间与位于该基材上的一主要特征，其中该第一区域定义一第一边界，而该第二区域定义一第二边界；形成一截切遮罩层(cut mask layer)以分别覆盖该第一区域与该第二区域，其中该截切遮罩层暴露该主要特征；决定该截切遮罩层是否与该第一边界以及该第二边界其中之至少一者自我对准，而建立一自我对准的叠对标记；进行一主要特征的蚀刻步骤，而将该主要特征转移至该基材中，当该截切遮罩层与该第一边界以及该第二边界其中之至少一者自我对准时。 | ||
| 地址 | 桃园市龟山区华亚科技园区复兴三路669号 | ||