| 发明名称 | 双重图案化的方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI483087 | 申请公布日期 | 2015.05.01 |
| 申请号 | TW102108686 | 申请日期 | 2013.03.12 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 李鎭玮;刘弘仁 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 | |
| 主权项 | 一种双重图案化的方法，包括：提供一基底，该基底包括一第一区及一第二区；在该基底上形成一目标层；在该目标层上形成一第一图案化的光阻层，该第一图案化的光阻层在该第一区具有多个第一开口且具有一第一厚度，而在该第二区上的该第一图案化的光阻层至少有一第一部分的一第二厚度小于在该第一区上的该第一图案化的光阻层的该第一厚度，且所述第二厚度大于零；以及于该些第一开口之中以及该第一图案化的光阻层上形成一第二光阻层。 | ||
| 地址 | 桃园市龟山区文化里复兴三路669号1楼 | ||